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Wirtschaftsminister gratuliert Unternehmen zum Deutschen Zukunftspreis

Wirtschaftsminister gratuliert Unternehmen zum Deutschen Zukunftspreis

Die Unternehmen Zeiss in Oberkochen und Trumpf in Ditzingen wurden vom Bundespräsidenten mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 ausgezeichnet. Wirtschaftsministerin Dr. Nicole Hoffmeister-Kraut gratulierte den Preisträgern. Sie haben die Produktion moderner Mikrochips für eine schnellere Verarbeitung großer Datenmengen entscheidend vorangetrieben.

Wirtschaftsminister Dr. Nicole Hoffmeister-Kraut hat die Firma Zeiss in Oberkochen und Trumpfkarte in Ditzingen anlässlich der Verleihung der Deutscher Zukunftspreis 2020 des Bundespräsidenten gratuliert. „Zeiss und Trumpf haben mit ihrer hervorragenden Entwicklungsarbeit zusammen mit dem niederländischen Unternehmen ASML und vielen anderen Partnern entscheidende Fortschritte bei der Herstellung moderner Mikrochips erzielt. Sie haben damit eine wichtige Hürde auf dem Weg zu einer schnelleren Verarbeitung großer Datenmengen bei Verwendung künstlicher Intelligenz genommen. Die Verleihung des Zukunftspreises ist ein Beweis für die herausragende Innovationskraft der baden-württembergischen Industrie und wirtschaftsbezogenen Forschungseinrichtungen “, sagte der Minister heute. Die Firma Zeiss arbeitet eng mit der Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) zusammen.

Weltmarktführer für Lithografiegeräte

Neue informationstechnologische Anwendungen und Systeme mit künstlicher Intelligenz erzeugen immer mehr Daten, die gleichzeitig immer schneller verarbeitet werden müssen. Dies erfordert Mikrochips, deren Leistung weit über das bisher Mögliche hinausgeht – und die mit herkömmlicher Technologie nicht hergestellt werden können. Die Preisträger überwinden diese Hürde gemeinsam mit ihren Partnern. Mit der Entwicklung der EUV-Lithografie – einer innovativen Technologie, die auf extrem ultraviolettem Licht oder Licht mit extrem kurzer Wellenlänge basiert – sind die Unternehmen führend auf dem Weltmarkt für Lithografiegeräte.

Die EUV-Lithographie basiert auf Spiegeln

Im Vergleich zu der zuvor in der Chipherstellung etablierten optischen Lithographie kann die EUV-Lithographie viel kleinere Strukturen in der Größenordnung von wenigen Nanometern (Millionstel Millimeter) erzeugen – dies entspricht etwa einem Zehntausendstel der Dicke eines menschlichen Haares. Dazu mussten die Preisträger und ihre Partner die Grenzen des technisch Machbaren drastisch verschieben – was die Entwickler unter anderem mit innovativer Hochleistungsoptik mit äußerst präzisen Spiegeln von Zeiss und erstklassiger Lasertechnologie von erreichten Trumpf. Die einzelnen Komponenten werden bei der niederländischen Firma ASML, einem führenden Hersteller von Lithografiesystemen für die Chipherstellung, in ein Gesamtsystem integriert.

Im Gegensatz zur klassischen optischen Lithographie basiert das EUV-Bildgebungssystem von Zeiss nicht auf Linsen, sondern auf Spiegeln. Diese hochpräzisen Spiegel von Oberkochen können einen Durchmesser von bis zu einem Meter haben und erfordern Krümmungsgenauigkeiten im Nanometerbereich. Um diese Spiegel messen zu können, sind individuell gefertigte, hochpräzise “Computer Generated Holograms” (CGH) erforderlich, die am Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) mit einer einzigartigen Technologie hergestellt werden. Mit modernsten Geräten wie Elektronenstrahlrekordern und engagierten Experten können dort auch sehr große Quarzsubstrate mit Strukturgrößen im Bereich von weniger als 100 Nanometern bereitgestellt werden. Dies wiederum ermöglicht es Zeiss, Spiegel unterschiedlichster Geometrien mit der erforderlichen Präzision zu messen. Das wirtschaftsorientierte Forschungsinstitut IMS CHIPS ist Mitglied von Innovationsbündnis Baden-Württemberg (innBW) und ist damit einer der wichtigsten Partner von Zeiss.

Deutscher Zukunftspreis

Innovationsallianz Baden-Württemberg innBW

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